Le réseau national de technologie RENATECH du CNRS et la Plateforme de Nanocaractérisation PFNC du CEA disposent de moyens de caractérisation ultra-performants, reconnus à l’échelle mondiale, et d’une expertise pointue en analyse et traitement de données. Portés par le PEPR Electronique (https://www.pepr-electronique.fr/fabrication-et-caracterisation/), ces deux acteurs clés ont lancé quatre groupes de travail thématiques pour dynamiser les échanges entre experts : analyse structurale et morphologique, analyse chimique, 3D & numérique, et optique. Dans ce cadre, le programme d’échange entre Renatech et la PFNC vous convie à son tout premier workshop thématique dédié aux techniques d’analyse des déformations et contraintes dans les films minces épitaxiés.

Cette conférence se tiendra au C2N les 12 et 13 janvier 2026.

Quatre sessions structurées rythmeront cet événement, avec des orateurs invités experts dans leur domaine. Chaque session mèlera présentation des techniques de pointe et applications concrètes, suivies de focus sur les dernières avancées scientifiques :

Chaque session sera aussi un moment d’échange privilégié entre orateurs et participants — étudiants, ingénieurs, chercheurs, enseignants, et industriels — pour partager savoirs et expériences.

L'inscription est gratuite mais obligatoire (limitée à 80 personnes)

Les inscrits sont invités à présenter leurs travaux sous forme de poster (titre à préciser lors de l'inscription - 1poster max par personne - nb total de posters limité à 30)

Contacts : Ludovic Largeau (CNRS-Université Paris-Saclay-C2N) - Patrice Gergaud (CEA-LETI)

L'adresse du C2N :

Comment s'y rendre :

https://www.c2n.universite-paris-saclay.fr/fr/laboratoire/informations-pratiques/